В микроэлектронике требуется точный анализ воды при производстве полупроводниковых микросхем, жидкокристаллических дисплеев, выращивания монокристаллов, отмывки печатных плат и оптических изделий. Прежде сверхчистую воду получали методом выпаривания, сейчас применяются несравнимо более совершенные технологии, в результате и качество продукции растет пропорционально. Но многоэтапная очистка воды не гарантирует абсолютное отсутствие примесей, качество воды необходимо непрерывно контролировать.