В Нижнем Новгороде создадут литограф для производства чипов на 7 нм

⚙ В Институте прикладной физики РАН разрабатывают первый российский литограф для производства микроэлектроники сверхмалого нанометража — он сможет выпускать чипы по топологии 7 нм.

⚙ Учёные уже создали первый демонстрационный образец литографа — на нём получили отдельные изображения на подложках с разрешением до 7 нм.

⚙ Промышленный образец планируется создать к 2028 году, однако уже после 2026 года установку можно будет применять на масштабных производствах.

⚙ По сравнению с литографами крупнейшего производителя оборудования для микроэлектронной промышленности ASML нижегородская модель имеет более компактный и «чистый» в работе источник излучения. Это влияет на стоимость, размеры и сложность оборудования — при равной мощности источника российская установка будет в 1,5–2 раза эффективнее.

⚙ Единственный на настоящий момент российский контрактный вендор полупроводников «Микрон» способен выпускать штучные чипы на 65 нм и серийные на 90 нм.